吳傑超 作品

第三百九十四章 與世界為敵

 “恐怕很多人都沒想到,我們會直接放棄原本成熟的duv技術,直接從頭開始的研發euv光刻機。”

 一邊說,他們還圍繞著廠房一邊走。

 “或許從最開始,就沒人看好euv光刻機,因為雖然理論上這能達到duv光刻機的十倍分辨率,但實在是太難了,難度太大,需要突破的瓶頸太多,對技術的需求極高,克服的難點數不勝數。”

 一邊說著他還一邊打開了手環,形成了一個三維的全息投影簡單的介紹道

 “大家都知道光刻機的本質就是曝光,duv光刻機,我們還能找到對應的鏡片讓深紫外線通過,特別是後來安布雷拉的技術產出的新鏡片,更是加強了這一點,安布雷拉自己的光刻機就是利用了這一點彎道超車,在不使用浸潤法的情況下超過了我們的效率!”

 阿斯麥沒有去貶低安布雷拉,甚至還可以說在旁邊吹噓。

 因為只有將安布雷拉的強大體現出來,才能說明他們更強!

 這是一個強大的對手,但還是輸了,輸在了我們面前!

 “但,這一點對euv光刻機卻是不行,我們使用的13.5nm波長極紫外線電離能力極強,沒有鏡頭可以適合這種精度下讓這種高能光束通過,所以唯一可以選擇的辦法,只有反射!”

 一邊說著,全息圖像上也進行了改變,講解了一下大概的原理。

 就是不斷利用一些鏡片的反射來完成對極紫外線的匯聚。

 總共要完成十幾次的反射才能達到最後的曝光要求!

 “這對於反射鏡片的精度需求可以說是極高的,要感謝卡爾蔡司公司在這方面的付出。”

 說完就對旁邊卡爾蔡司的工程師做出了一個請的手勢。

 卡爾蔡司公司的工程師也順勢站了出來禮貌的說道

 “我們同樣利用到了安布雷拉的技術塗層,不過當然,就精度方面,我們還是有點自信的……”

 隨後,阿斯麥的代表又介紹了他們的euv光源。

 “之前說了,極紫外線需要通過十幾次反射才能達到我們的效果,而因為極紫外線的電離消耗,每次反射都會損失大概30%左右的能量,最終我們能夠有效利用的光只有大概2%,因此,我們需要光源有著足夠且穩定的輸出功率,為了克服這個問題cymer公司可是花費了整整十年的時間來攻克,不過cymer公司在三年前已經被我們公司完成了收購……”

 一邊說著,他一邊繼續外放了全息畫面,裡面連原理都出來了,就是用高能激光不斷轟擊液態金屬滴,難度和精確度看著他提供的數據就讓人頭皮發麻。

 只是製造出來不難,可要保持穩定和持久,還有足夠輸出功率的光源,那就要確保每次的撞擊都極為精準,且頻率要足夠高。

 不斷轟擊滴落的金屬液滴,各方面稍微有一點失誤都是完全不同的。