第一百六十四章 恐怖的方向

    王易開始了時不時進入超頻的一個長期實驗狀態，外面的事都由林詩琴把控，可以便宜行事。

    一直也沒有被打斷進程。

    其實在完成了a1隱形眼鏡鏡片後，王易就一直在摸索魔力鎖定電子能級，使得電子不吸收高能光子讓高能光束可以通過。

    （這裡可以複習一下105章後半段，畢竟掛在科幻頻道，一些基本的還是要符合一下的好點。）

    一直以來的研究也按部就班的還算順利，樹脂透光的波長一直到了150nm左右。

    這可以說已經是相當誇張的一個成績！

    當前極紫外線euv光刻機還停留在阿斯麥的實驗室階段，或許已經出現了雛形和原型機，但euv光刻機的本來目的是要量產芯片，加上需要真空環境，所以不管是到光刻機可以量產芯片還是到光刻機本身的商業化都還需要時間。

    目前最頂尖的光刻機，是阿斯麥彎道超車與積電理論合作弄出來的193nm波長浸潤式duv光刻機，因為利用液體折射率，使得明明193nm的深紫外線波長極限精度可以大大增加。

    雖說目前普遍芯片工藝都還是20nm以上，但浸潤式的duv光刻機理論精度可以達到極限7nm，不過要做到這一點也得配套的工藝上來，不是誰都能達到的。

    以前光刻機巨頭的康尼和佳能，就是一直採用乾式光刻機，只想著縮短光源波長，哪怕弄出了157nm波長光刻機也依然被阿斯麥無情的彎道超車，從而失去了客戶。

    這就是尖端科技，贏者通吃！

    而duv光刻機哪怕只是深紫外線，想要選擇鏡頭也已經相當稀缺，可提供的選擇大概就是氟化鈣和氟化鋇。

    深紫外線的光子能級太高了，太容易被吸收，這可是連臭氧層都進不來的光，樹脂什麼的就有些天方夜譚了。

    可王易之前靠著魔力對樹脂內電子的加持，硬生生的擼到了150nm波長可以通過的程度。

    理論上這玩意兒拿出來，已經能夠讓卡爾蔡司這種企業頭皮發麻，甚至對當前版本的光刻機進行一定程度的升級。

    只是這對於王易來說，卻還是相當的不滿意。

    他用的可是魔法科技，極限堆到150nm都這麼吃力了，未來euv光刻機已經接近x射線臨界值的13.5nm，光子能級可是超過了150nm深紫外線能級的十倍！