第四十二章 野望

    放鬆了一天。

    黃明哲年初四就接到馬知力的報告，他連忙趕過去材料研究所。

    “社長，你終於來了。”馬知力興奮的邊走邊說。

    看著馬知力等人那滿眼血絲、頭髮亂糟糟的樣子，就知道他們這些天一直在測試光敏材料規律模型。

    “老馬要勞逸結合，辦公室談吧！”黃明哲向辦公室去。

    “多謝社長關心，我一時間太興奮而已。”

    辦公室裡面，在場只有馬知力和四個研究員，其他人都還沒有回來上班。

    “都坐。”黃明哲坐下之後:“模型計算出來的出材效率是8.6%左右，而出材合格率是1.7%左右。”

    “是的，社長。”馬知力興奮的說道:“社長，你研發的計算模型太厲害了，簡直是材料研發的神器。”

    “宇宙萬物都在數學之中，沒有什麼不可以被計算。”黃明哲微笑著說道。

    如果之前有人在馬知力等人面前這樣說，他們絕對會嗤之以鼻，但是現在他們已經有些相信了。

    “社長，你這個模型要是發出去，估計可以引發材料學革命。”馬知力讚歎道。

    黃明哲搖搖頭說道:“這種國際精神要不得，這個模型我們內部自己用就可以了。”

    “社長說得對。”

    “我看了你們的報告，現在我給你們下一個任務。”

    “社長請吩咐。”馬知力連忙拿出筆記本說道。

    “研發一種x射線高敏膠。”

    “x射線高敏膠?社長是想研發光刻膠吧！”馬知力一聽便知道黃明哲的打算。

    黃明哲點了點頭:“沒有錯，就是x射線級別的光刻膠，我提幾個要求，波長最好在3～8納米之間；x射線敏感度要足夠高，最好可以在幾秒鐘之內徹底溶解；另外對於x射線的能量級別，最好不需要高能級就可以實現快速光分解。”

    “社長，如果我們研發x射線光刻膠，這個可是沒有客戶的。”馬知力提醒道。

    目前市面上的光刻機的光源，一般分為紫外光（uv）、深紫外光（duv）、極紫外光（euv），其中最先進的光刻機，就是尼德蘭的阿斯麥公司生產的極紫外光（euv），波長為13.4納米。

    但是其實在上個世紀八十年代，光刻機行業之中，還有除了極紫外光（euv）路線，還存在著另一個路線——x射線光刻機。